掩模板/掩膜版可以应用于OPV Perovskite OFEF PLED Device等各种器件图形化薄膜和电极。具体价格请和店家联系，不同的规格和数量价格不同，10元只是方便大家拍。

主要采用精密化学腐蚀或者激光切割和焊接工艺来制备不锈钢掩模板。

按照目前的精密化学腐蚀工艺条件，特点如下，供大家参考。

1.最低可以在0.1mm的304不锈钢钢板上制作实体0.15mm(150um)，空隙（挖孔）0.01mm(100um)，误差一般正负0.03mm(30um)，成本相对较贵。

2.性价比较高的是在0.3mm的304不锈钢钢板上制作实体0.4mm(400um)，镂空（挖孔）0.04mm(400um)，误差正负0.05mm(50um)，速度快，成本中等。

3.直接激光切割后打磨，最低厚度0.75mm，空隙大于1mm，不能是孔阵列（因为激光加工，孔太多，容易变形），速度快，价格便宜。

4.高精度激光加工，可以加工空隙40um，间隙500um的图案，加工难度大，价格较贵。

掩模板可以应用于电子束蒸发，热蒸发，磁控溅射等设备中，用来制备OPV、OLED、钙钛矿太阳能电池，光电探测器，场效应晶体管等各种器件图形化薄膜和电极。

备注：一般来说，精密化学腐蚀工艺制备出来的掩模板/掩膜版更光滑，平整度更好，但价格贵些；激光切割和焊接出来的稍微粗糙点，一般都会打磨，但价格便宜些，但是满足正常的实验需要一般都没有问题。有特殊要求的客户一定要提前说明。

请买家尽量提供CAD图纸，如果实在不能提供，请提供可以准确描述掩模板规格的草图，我们会根据我们的经验提供合理化的加工建议后，设计图纸给客户确认后，正式下单定做。